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熱場發射掃描電子顯微鏡特性:
半浸沒式物鏡
半浸沒式物鏡在樣品周圍形成強磁場,因而可以獲得超高分辨率。
High Power Optics
High Power Optics 是*的電子光學系統,既實現了高倍率觀察又能進行多種分析。
熱場發射掃描電子顯微鏡浸沒式肖特基場發射電子槍,可以獲得10 倍于傳統肖特基場發射電子槍(FEG)的探針電流,光闌角控制鏡(ALC)在探針電流增大時也能保持小束斑,兩者組合起來能提供200 nA 以上的探針電流。強大的High Power Optics 系統,從高倍率圖像觀察到EDS分析和EBSD解析可以一直使用高分辨率的最小物鏡光闌而不需要改換。
浸沒式肖特基場發射電子槍銃
浸沒式肖特基場發射電子槍通過和低像差聚光鏡組合,可以有效地收集從電子槍內發射的電子。
光闌角控制鏡(ACL)
光闌角控制鏡(ACL)配置在物鏡的上方,在整個探針電流范圍內自動優化物鏡光闌的角度。因此,即使照射樣品的探針電流很大,與傳統方式相比,也能獲得很小的電子束斑。
即使探針電流很大,束斑直徑也很小
長時間分析時穩定度也很高
柔和電子束(GB:GENTLEBEAMTM)模式
GB 模式的效果
GB 模式在低電壓下提高分辨率
左圖一般模式,右圖GB模式:
增強了的低加速電壓下的分辨率
r-過濾器
LABE檢測器(選配件)
利用LABE 檢測器獲取低角度背散射電子像
擴展性
能譜儀(EDS)
波譜儀(WDS)
陰極熒光系統(CL)
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